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第三百一十三章 光刻技术(3 / 3)

为400到10纳米。

极紫外光刻,是以波长10到14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。

1997年山姆国成立了euvllc联盟,asm在做出多项让步后成功入局。

euvllc联盟汇聚了山姆顶尖的研究资源和芯片巨头,包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室,联合ibm、amd、motorola等巨头,集中数百位顶尖科学家,共同研究euv技术。

安德烈将有关情况发聩给陈立东后,陈立东下达指令:靠近阿斯麦,与之发生业务关系,然后向阿斯麦输送一批员工。

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(本章完)

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