第九三八章 提案（2 / 2）

CA开发成功KrF光刻机，实现了1μm制程工艺，但尼康光刻机的制程工艺提升到800nm，GCA的高端市场份额没有多大起色。

六六年，中K院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。

八一年，中K院半导体研究所研制成功JK-1半自动接近式光刻机。

八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功KHA75-1型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的PLA500-F型。

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